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《大话集成电路24》刻蚀技术：光刻之后，芯片生产的第二道技术坎
发布于：2022-06-25
内容简介
在集成电路的制造过程中，一共有三个同等重要的环节，分别是光刻、刻蚀和薄膜淀积。相比于光刻，刻蚀的知名度就要小了很多，但它也是一道技术含量很高的加工步骤，不如来一起了解一下吧。
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